X射線衍射XRD工作原理：
分析原理：X射線是原子內(nèi)層電子在高速運動電子的轟擊下躍遷而產(chǎn)生的光輻射，主要有連續(xù)X射線和特征X射線兩種。晶體可被用作X光的光柵，這些很大數(shù)目的原子或離子/分子所產(chǎn)生的相干散射將會發(fā)生光的干涉作用，從而影響散射的X射線的強度增強或減弱。由于大量原子散射波的疊加，互相干涉而產(chǎn)生大強度的光束稱為X射線的衍射線。

X射線衍射儀技術(shù)（XRD）注意事項：

（1）固體樣品表面＞10×10mm，厚度在5μm以上，表面必須平整，可以用幾塊粘貼一起。

（2）對于片狀、圓拄狀樣品會存在嚴重的擇優(yōu)取向，衍射強度異常，需提供測試方向。

（3）對于測量金屬樣品的微觀應力（晶格畸變），測量殘余奧氏體，要求制備成金相樣品，并進行普通拋光或電解拋光，消除表面應變層。

（4）粉末樣品要求磨成320目的粒度，直徑約40微米，重量大于5g。